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深圳市特普科電子設(shè)備有限公司

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ASMPT 晶圓濺鍍 Apollo 300

2024-03-13
321次
ASMPT 晶圓濺鍍 Apollo 300

詳細(xì)介紹

晶圓濺鍍 – Apollo 300

PVD 200-300 mm 晶圓加工

應(yīng)用

  • 可配置多達(dá) 5 種不同的電鍍材料

  • 底部金屬化沉積 (UBM) / 再布線 (RDL)

  • 扇出

  • 射頻過(guò)濾器

  • 功率器件

特點(diǎn)

  • 橋接能力:尺寸變化

  • 除氣 / 退火

  • 感應(yīng)耦合電漿 (ICP) 蝕刻 / 電容式耦合電漿(CCP) 蝕刻

材料

  • 200 mm 和 300 mm 晶圓

  • 翹曲晶圓和重晶圓加工

  • 硅片、環(huán)氧模塑料 (EMC)、重分配芯片封裝 (RCP)、玻璃、Bonded


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